Поле | Название | Значение |
|
Тип записи |
a |
|
Библиографический уровень |
b |
001 |
Контрольный номер |
ULGU/FULLTEXT/316b5ffa0b2c4265b869d3f35bc9f9fc |
005 |
Дата корректировки |
20250627104352.7 |
008 |
Кодируемые данные |
250627s2025|||||ru|||||||||||||||||rus|d |
040 |
Источник каталогиз. |
__ |
a |
Служба первич. каталог. |
НБ УлГУ |
b |
Код языка каталог. |
rus |
041 |
Код языка издания |
0_ |
a |
Код языка текста |
rus |
h |
Код языка оригинала |
rus |
084 |
Индекс другой классификации/Индекс ББК |
__ |
a |
Индекс другой классификации/Индекс ББК |
22.333 |
100 |
Автор |
1_ |
a |
Автор |
Калмыков, Д. А. |
u |
Дополнение |
Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова Сибирского отделения РАН (Новосибирск) |
4 |
Код отношения |
070 |
245 |
Заглавие |
10 |
a |
Заглавие |
Синапс-резистор на основе перехода полупроводник-металл в диоксиде ванадия |
336 |
Вид содержания |
__ |
a |
Термин вида содержания |
Текст |
337 |
Средство доступа |
__ |
a |
Термин типа средства |
непосредственный |
504 |
Библиография |
__ |
a |
Библиография |
Библиогр.: с. 1410-1411 (22 назв.) |
520 |
Аннотация |
0_ |
a |
Аннотация |
Разработан и исследован искусственный синапс (синапс-резистор) для нейроморфных схем, принцип работы которого основан на использовании фазового перехода полупроводник-металл в диоксиде ванадия. Тонкие поликристаллические пленки диоксида ванадия были синтезированы методом ионно-лучевого распыления-осаждения. |
650 |
Тематические рубрики |
14 |
a |
Основная рубрика |
Физика |
650 |
Тематические рубрики |
14 |
a |
Основная рубрика |
Электронные и ионные явления. Физика плазмы |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
синапсы |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
синапс-резистор |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
фазовые переходы |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
полупроводник-металл |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
диоксид ванадия |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
поликристаллические пленки |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
ионно-лучевое распыление |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
осаждение |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
нейроморфные схемы |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
искусственный синапс |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
электроны плазмы |
700 |
Другие авторы |
12 |
a |
Другие авторы |
Алиев, В. Ш. |
u |
Дополнение |
Новосибирский государственный технический университет |
4 |
Код отношения |
070 |
700 |
Другие авторы |
12 |
a |
Другие авторы |
Бортников, С. Г. |
u |
Дополнение |
Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова Сибирского отделения РАН (Новосибирск) |
4 |
Код отношения |
070 |
773 |
Источник информации |
18 |
w |
Контрольный № источника |
ULGU/FULLTEXT/bcf21c998a524246a1ee405d7f845658 |
t |
Название источника |
Журнал технической физики |
d |
Место и дата издания |
2025 |
g |
Прочая информация |
№ 7. - С. 1404-1411 |
x |
ISSN |
0044-4642 |
856 |
Электронный адрес документа |
40 |
u |
URL |
https://journals.ioffe.ru/articles/60663 |
901 |
Тип документа |
__ |
t |
Тип документа |
b |
911 |
Журнальная рубрика |
__ |
a |
Журнальная рубрика |
Твердотельная электроника |