Поле | Название | Значение |
|
Тип записи |
a |
|
Библиографический уровень |
b |
001 |
Контрольный номер |
ULGU/FULLTEXT/67038be7e8b54301bd0e86cd8551e65d |
005 |
Дата корректировки |
20240617115045.7 |
008 |
Кодируемые данные |
240617s2024||||ru |||||||||||||||||rus|d |
040 |
Источник каталогиз. |
__ |
a |
Служба первич. каталог. |
НБ УлГУ |
b |
Код языка каталог. |
rus |
041 |
Код языка издания |
0_ |
a |
Код языка текста |
rus |
h |
Код языка оригинала |
rus |
084 |
Индекс другой классификации/Индекс ББК |
__ |
a |
Индекс другой классификации/Индекс ББК |
22.37 |
100 |
Автор |
1_ |
a |
Автор |
Бессолов, В. Н. |
u |
Дополнение |
Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе РАН (Санкт-Петербург) |
4 |
Код отношения |
070 |
245 |
Заглавие |
10 |
a |
Заглавие |
Газофазная эпитаксия слоев AlN на наноструктурированном темплейте AlN/Si(100), синтезированном методом реактивного магнетронного распыления |
336 |
Вид содержания |
__ |
a |
Термин вида содержания |
Текст |
337 |
Средство доступа |
__ |
a |
Термин типа средства |
непосредственный |
504 |
Библиография |
__ |
a |
Библиография |
Библиогр.: с. 947 (18 назв.) |
520 |
Аннотация |
0_ |
a |
Аннотация |
Методами атомно-силовой микроскопии и комбинационного рассеяния света изучены слои AlN, выращенные методом газофазной эпитаксии из металлoорганических соединений на подложке Si(100), на поверхности которой сформированы симметричная V-образная наноструктура с размером элементов < 100 nm (подложка NP-Si(100)) и буферный слой AlN, полученный методом реактивного магнетронного напыления. |
650 |
Тематические рубрики |
14 |
a |
Основная рубрика |
Физика |
650 |
Тематические рубрики |
14 |
a |
Основная рубрика |
Физика твердого тела. Кристаллография в целом |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
реактивное магнетронное распыление |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
нитрид алюминия |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
AlN |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
темплейты |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
AlN/Si(100) |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
газофазная эпитаксия |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
атомно-силовая микроскопия |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
комбинационное рассеяние света |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
металлoорганические соединения |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
подложки кремния |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
наноструктуры |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
NP-Si(100) |
653 |
Ключевые слова |
1_ |
a |
Ключевые слова |
буферные слои |
700 |
Другие авторы |
12 |
a |
Другие авторы |
Компан, М. Е. |
u |
Дополнение |
Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе РАН (Санкт-Петербург) |
4 |
Код отношения |
070 |
700 |
Другие авторы |
12 |
a |
Другие авторы |
Коненкова, Е. В. |
u |
Дополнение |
Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе РАН (Санкт-Петербург) |
4 |
Код отношения |
070 |
700 |
Другие авторы |
12 |
a |
Другие авторы |
Орлова, Т. А. |
u |
Дополнение |
Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе РАН (Санкт-Петербург) |
4 |
Код отношения |
070 |
700 |
Другие авторы |
12 |
a |
Другие авторы |
Родин, С. Н. |
u |
Дополнение |
Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе РАН (Санкт-Петербург) |
4 |
Код отношения |
070 |
700 |
Другие авторы |
12 |
a |
Другие авторы |
Соломникова, А. В. |
u |
Дополнение |
Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В. И. Ульянова (Ленина) |
4 |
Код отношения |
070 |
773 |
Источник информации |
18 |
w |
Контрольный № источника |
ULGU/FULLTEXT/220c021dc3324815b68a628cda8c1f5e |
t |
Название источника |
Журнал технической физики |
d |
Место и дата издания |
2024 |
g |
Прочая информация |
№ 6. - С. 944-947 |
x |
ISSN |
0044-4642 |
856 |
Электронный адрес документа |
40 |
u |
URL |
https://journals.ioffe.ru/articles/58135 |
901 |
Тип документа |
__ |
t |
Тип документа |
b |
911 |
Журнальная рубрика |
__ |
a |
Журнальная рубрика |
Физическая электроника |