| Найдено документов - 1 | Источник: Структурные изменения и глубинное перераспределение имплантированных примесей In и As в Si при стационарной и импульсной термообработке / Р. И. Баталов, В. В. Базаров, Е. М. Бегишев [и др.]. - Т... | Версия для печати |
Сортировать по:
1. Номер журнала
| Журнал технической физики. № 4. - Москва, 2026. - URL: https://journals.ioffe.ru/issues/2640. | |
| Поиск: | Статьи из номера журнала (сборника) Источник |
| Ссылка на ресурс: | https://journals.ioffe.ru/issues/2640 |